华厦是一家专业从事半导体集成电路高纯材料，基础材料研发及生产的高新技术企业。团队由本土及归国人才组成，分别来自港理工、清华、北大、川大、西南交大、东京大学、名古屋大学、沃顿等名校，拥有近20年的行业产业化背景及经验。

华厦半导体致力于半导体集成电路用：高纯单质金属、高纯化合物等产品的产业化研发与生产。拥有完全自主可控的数十项发明及实用新型专利，覆盖了从装备、到产业化工艺的全产业链布局。并获得了相关华厦多个商标注册。

华厦半导体布局打造以“镓”金属为核心，从高纯镓，超高纯镓，高纯氮化镓粉末，氮化镓微晶，氮化镓籽晶，氮化镓衬底，氮化镓外延及高纯锑化镓粉末，高纯氧化镓粉末，锑化镓单晶，液态镓基合金材料的华厦镓链。

其中，氮化镓同质衬底是一种可以大幅度降低成本的工艺：即提供一种氮化镓生长衬底，包括逐层叠加的基板、晶格转化层和缓冲层；基板为氮化镓非晶基板覆盖多晶层，在缓冲层与基底之间设置有用金属制成的晶格转化层，避免缓冲层与基底晶格适配参数相差较大而造成最终产品中存在较多晶格缺陷的问题。目前氮化镓衬底采用的主流工艺技术是 HVPE （氢化物气相外延）和MOCVD（金属有机化学气相沉积），这是技术都源自海外，而华厦半导体采用的生产工艺完全是由华厦半导体自己独立研发的，它的产业化成功也许会意味着一场颠覆。

同时，在异质氮化镓外延上，华厦也有深厚的技术积淀，特别在MOCVD设备的低成本创新及外延工艺创新上取得了具有绝对领先的市场竞争力。 未来，华厦氮化镓外延项目会向功率芯片IDM模式发展。

氧化镓（Ga2O3）被誉为第四代半导体材料，相比其他半导体材料，拥有体积更小、能耗更低、功能更强等优势，可以在苛刻的环境条件下能够更好地运用在电力电子器件中。氧化镓材料将是中国集成电路赶超世界的突破口，在第四代半导体氧化镓材料方面，尤其氧化镓粉末高效环保生产，为氧化镓单晶制备提供国产高纯源材料方面，华厦有着长期的技术积累及产业化经验。

在镓基合金的相关应用上， 华厦也是中国第一家，从技术布局在碳科技碳中和的应用。已取得数项专利，并获得深圳市龙岗区的唯一政府揭榜项目。

截至目前，华厦半导体是全球唯一家从源头“镓”金属布局的三代半材料产业链企业。

华厦半导体通过“科技赋能”，全力助力及参与中国拿回“镓、铟、碲”等稀散战略金属的定价权。特别在集成电路关键材料上，解决“卡脖子”，为完全自主可控，国产替代奋斗。